...
机译:锰离子注入的TiO_2中的室温铁磁性
Institut fuer Physik der kondensierten Materie, Technische Universitaet Braunschweig, Mendelssohnstr. 3, 38106 Braunschweig, Germany;
doping and impurity implantation in other materials; magnetic impurity interactions; magnetic semiconductors; iron group (3d) ions and impurities (Ti-Cu);
机译:通过高温退火改善锰注入硅中的室温铁磁性
机译:锰注入非晶Ge中的室温铁磁性
机译:Mn注入的TiO2中的室温铁磁性
机译:Co和Nb共掺杂TiO_2纳米粒子的室温铁磁性
机译:TiO_2薄膜的反应溅射沉积工艺分析参见用法统计
机译:室温局部铁磁性及其在铁磁半导体Ge1-xFex中的纳米级扩展
机译:分子束外延沉积的Mn注入和退火后的InAs层中的室温铁磁行为
机译:Cr和mn注入al(sub x)Ga(sub 1-x)N中的高温铁磁性