ゾルーゲル技術を経たフエニルホスフィンオキサイド含有した新しいポリイミド／SiO_2ナノコンポジット材料の合成およびキャラクタリゼイション

摘要

本報告は、新しいポリイミド／シリカ（PI/SiO_2）ナノコンポジットコーティング材料のシリーズを、テトラエトキシシラン（TEOS）、γ・グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン（GOTMS）およびゾルザル法によるポリアミック酸（PAA）から調製した。PAAは、3,3',4,4-ベンゾフェノンテトラカルポン酸2無水物（BTDA）およびビス（3-アミノフェニル）フェニルホスフィンオキサイド伯APPO）の　N・メチルー2・ピロリドン（NMP）中での反応で調製した。