SAITEC，湿式研磨に比べ10倍の研磨レートを示す高速鏡面加工法を開発

摘要

埼玉県産業技術総合センターrn（SAITEC）は，湿式のスラリー研磨rnに比べて10倍の研磨レートを示す高rn速鏡面加工法を開発したと発表しrnた。rn加工には酸化セリウムEPDrn（Electro Phoretic Deposition）砥石をrn用い，実際に研磨したところ，前加rn工面から1分で表面租さが2nmRa以rn下に，その後3分程度で1.5nmRa程rn度になり，極めて短い時間で鏡面にrn近くなることが分かった。比較対象rnとして行なったダイヤモンドスラリrnーを用いた湿式研磨では10～15分rn程度を要する結果となった。