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机译:Hf含量对HfSiON栅极电介质正偏压温度不稳定性可靠性的影响
Institute of Mechatranic Eng., National Taipei University of Technology, No. 1, Sec. 3, Chung-Hsiao E. Rd., Taipei 10608, Taiwan;
Dept. of Mechatronic Technology, National Taiwan Normal University, No. 162, Sec. 1. He-Ping E. Rd., Taipei 106, Taiwan;
机译:将Mg掺入HfSiON栅极电介质中的n型场效应晶体管对性能,正偏置温度不稳定性和随时间变化的电介质击穿的影响
机译:高温氮化后TaSiN / HfSiON栅堆叠的正偏置温度不稳定性和器件性能的改善
机译:Ni-FUSI栅电极的结晶相对HfSiON MOSFET的偏置温度不稳定性和栅介电击穿的影响
机译:用于65 nm节点低待机功率晶体管的具有改善的偏置温度不稳定性的SiN封顶HfSiON栅极堆叠
机译:偏置温度不稳定性和高级栅极电介质的逐步击穿的实验研究。
机译:具有TiO2栅极电介质的超薄VO2通道中的正偏置栅极控制的金属-绝缘体过渡
机译:具有超薄HfSiON介电栅极叠层的MOSFET中的电阻开关行为类似:pMOS和nMOS的比较和可靠性影响