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机译:掩模对准仪光刻仿真-从光刻仿真到工艺验证
Fraunhofer USB, Schottkystr. 10, 91058 Erlangen, Germany;
Vorarlberg University of Applied Sciences, Hochschulstr. 1, 6850 Dornbirn, Austria;
SUSS MicroOptics SA Rue Jaquet-Droz 7, 2000 Neuchatel, Switzerland;
CenlSys GmbH, Eschenstr. 66, 82024 Taufkirchen, Germany;
CenlSys GmbH, Eschenstr. 66, 82024 Taufkirchen, Germany;
SUSS MicroTec Lithography GmbH, Schleissheimer Str. 90, 85748 Garching, Germany;
SUSS MicroTec Lithography GmbH, Schleissheimer Str. 90, 85748 Garching, Germany;
Osram Opto Semiconductors GmbH, Leibnizstr. 4, 93055 Regensburg, Germany;
SUSS MicroTec Lithography GmbH, Schleissheimer Str. 90, 85748 Garching, Germany;
Fraunhofer USB, Schottkystr. 10, 91058 Erlangen, Germany;
Vorarlberg University of Applied Sciences, Hochschulstr. 1, 6850 Dornbirn, Austria;
optical lithography; mask aligner; proximity printing; photoresist; dissolution rate monitor;
机译:微光学和光刻模拟是掩模对准器中阴影印刷光刻的关键技术
机译:移动掩模深X射线光刻的X射线光刻验证与开发仿真系统
机译:使用双面(结构化)光掩模进行掩模对准器光刻的硅通孔制造的优化光刻工艺
机译:调整用于掩模工艺校正(MPC)的光学邻近校正(OPC)软件。模块2:基于光学掩模书写工具模拟的光刻模拟
机译:使用有限差分时域仿真研究块掩模光刻技术的变化。
机译:SU-8厚光刻胶紫外光刻工艺的综合模拟
机译:X射线光刻的验证和移动掩模深X射线光刻的开发仿真系统