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Litho simulation start-up wants to keep chip industry on right track

机译:光刻模拟初创公司希望使芯片行业步入正轨

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摘要

The semiconductor industry is heading for a train wreck, warns John Petersen. The cause? Systematic failures "where the design and the process have a mismatch." The result? Yield hits and idle lines caused by processes running at much less than their full potential. Petersen, a former fellow at International Sematech, asserts that the bulk of these mismatches occur in lithography. He acknowledges the industry is debating the extent that problems can be traced to lithography, or to the interaction of lithography and layers. What is certain, though, is that the yield issues have become particularly acute at the sub-180-nm technology node, where interconnect wiring, structure, and gate uniformity contribute to performance problems, Petersen says.
机译:约翰·彼得森警告说,半导体行业正在走向火车残骸。原因?系统故障“设计和过程不匹配的地方”。结果?由于流程运行的效率远低于其全部潜力而导致的产量下降和闲置生产线。彼得森(Petersen)是国际Sematech的前研究员,他断言这些不匹配的大部分发生在光刻技术中。他承认业界正在争论问题的范围可以追溯到光刻或光刻与层之间的相互作用。可以肯定的是,在低于180nm的技术节点上,成品率问题变得尤为严重,因为互连布线,结构和栅极均匀性会导致性能问题,Petersen说。

著录项

  • 来源
    《Micro》 |2003年第4期|p.1418-20|共4页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 环境科学、安全科学;
  • 关键词

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