机译:通过离子束溅射对硅表面进行自组织纳米图案化
Departamento de Matematicas and GISC, Universidad Carlos Ⅲ de Madrid, E-28911 Leganes, Spain;
Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (CSIC), Cantoblanco, E-28049 Madrid, Spain;
Grupo de Dinamica No-Lineal and Grupo Interdisciplinar de Sistemas Complejos (GISC), Escuela Tecnica Superior de Ingenieria (ICAI), Universidad Pontificia Comillas, E-28015 Madrid, Spain;
Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (CSIC), Cantoblanco, E-28049 Madrid, Spain;
Departamento de Fisica Aplicada, Universidad Autonoma de Madrid, Cantoblanco, E-28049 Madrid, Spain;
Grupo de Dinamica No-Lineal and Grupo Interdisciplinar de Sistemas Complejos (GISC), Escuela Tecnica Superior de Ingenieria (ICAI), Universidad Pontificia Comillas, E-28015 Madrid, Spain;
Departamento de Matematicas and GISC, Universidad Carlos Ⅲ de Madrid, E-28911 Leganes, Spain;
Ion beam technology; Nanopatterning; Silicon; Co-deposition;
机译:中能离子束溅射在Cd(Zn)Te晶体上的自组织表面纳米图案
机译:通过低能离子束溅射对硅表面进行纳米构图:取决于离子入射角
机译:通过低能离子束溅射,离子损伤可克服硅表面纳米图案中的结构无序
机译:使用离子束照射的Si(100)表面自组织纳米透视图
机译:硬质材料表面的离子束辐照:锑化镓和硅衬底的纳米构图以及超细和多峰钨的辐照损伤。
机译:通过离子束溅射在Si上形成超薄金薄膜涂层形成硅纳米点
机译:通过离子束溅射自组织表面纳米透视
机译:用于深凹面的热稳定离子束溅射涂层