机译:基于Al-W结构的溅射沉积W-Si-N涂层的表征
Department of Manufacturing Engineering and Engineering Management, City University of Hong Kong, Kowloon, Hong Kong, P.R. China;
W-Si-N; Thin films; Magnetron sputtering; Hardness;
机译:溅射沉积纳米W-Si-N纳米复合涂层的结构,应力和硬度
机译:溅射沉积W-Si-N复合涂层的表面形貌的原子力显微镜表征
机译:W-Si-N溅射镀层的硬度与结构
机译:磁控溅射沉积纳米结构Ti-Al-Si-N涂层的组织和力学性能
机译:基于β-镍铝化物的溅射沉积表面涂层的微观结构和氧化行为
机译:磁控溅射沉积的ZrZr氮化物和Zr-碳氮化物涂层的合成微观结构表征及纳米抑制
机译:磁控溅射沉积的基于Hf,V,Ta的氮化物涂层的结构,物理和机械性能