机译:射频和直流磁控溅射同时处理衬底温度对掺钛ZnO薄膜性能的影响
Natl Cheng Kung Univ, Dept Mat Sci & Engn, Tainan 701, Taiwan;
substrate temperature; morphologies; resistivity; transmission; CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; OXIDE THIN-FILMS; TRANSPARENT CONDUCTORS; COATINGS; GROWTH;
机译:射频和直流磁控管同时溅射在不同衬底温度下沉积的ZnO / Cu / ZnO多层膜的性能
机译:同时进行射频和直流磁控溅射沉积的掺钛ZnO薄膜的性能
机译:射频和直流磁控溅射厚度对掺钛ZnO薄膜性能的影响
机译:溅射气压和衬底温度对射频磁控溅射制备ZnO:Al薄膜光学性能的影响
机译:交流磁控溅射在低温下沉积的生物相容性氧化铝膜的性能。
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:基质温度对RF磁控溅射制备的(Ga,Ge) - ZnO薄膜性能的影响