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机译:直流反应溅射沉积单相MnS薄膜的相变结构和电化学性能
Indian Inst Technol Roorkee, Thin Film Lab, Inst Instrumentat Ctr, Roorkee 247667, Uttar Pradesh, India;
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机译:通过调节AR / O-2比率调节DC反应磁控溅射沉积的TiOx薄膜的晶体结构和性质
机译:氢气氛中反应溅射沉积的ZrO_2·H_x薄膜的结构和电化学性质
机译:反应性直流磁控溅射沉积ScN和(Sc,Mn)N薄膜的电子和光学性质
机译:溅射功率对反应性DC溅射技术沉积AlN薄膜结构和光学性质的影响
机译:原位光谱椭圆偏振法研究直流反应磁控溅射沉积的硅膜的结晶度和界面结构。
机译:直流磁控溅射沉积TiO2薄膜的生物相容性和表面性质
机译:负基质偏置诱导的DC溅射沉积纳米结晶Mo薄膜物理性质的修饰