...
机译:通过超保形化学气相沉积填充高深宽比沟槽:预测模型和实验
Department of Materials Science and Engineering, University of Illinois at Urbana-Champaign, 1304 W. Green St, Urbana, Illinois 61801, USA;
Department of Materials Science and Engineering, University of Illinois at Urbana-Champaign, 1304 W. Green St, Urbana, Illinois 61801, USA;
机译:等离子体处理吸附的碘对铜化学气相沉积催化剂的影响及其在高深宽比沟槽填充中的应用
机译:催化增强化学气相沉积结合等离子体处理高纵横比铜超填充特征及机理的研究
机译:化学气相沉积W技术中高纵横比沟槽的电导率
机译:通过表面活性剂催化化学气相沉积法对亚微米级特征的超适形填充进行量化
机译:化学气相沉积和化学气相渗透法制备碳化硅膜的连续孔网络模型
机译:通过原子层沉积和化学气相沉积在高纵横比结构中沉积的薄膜的ToF-SIMS 3D分析
机译:使用金纳米颗粒通过金属有机化学气相沉积法生长的高深宽比的ZnO纳米线
机译:材料制备中激光相互作用的基础研究:化学气相沉积,三氯硅烷,文献调查和燃烧实验的新方面