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机译:高分辨率x射线衍射显示Si_(0.4)Ge_(0.6)/ Si(001)外延膜弛豫开始时出现的束错位错
Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, Berlin, Germany;
Rigaku Europe SE, Am Hardwald 11, Ettlingen, Germany;
Atomicus OOO, Mogilevskaya Str. 39a-530, Minsk, Belarus;
University of Warwick, Department of Physics, Coventry, United Kingdom;
Atomicus GmbH, Schoemperlen Str. 12a, Karlsruhe, Germany;
机译:通过高分辨率X射线衍射揭示的Si0.4Ge0.6 / Si(001)外延膜的弛豫发作的束束缚错位
机译:在稀薄的Si_(0.4)Ge_(0.6)/ LT-Si_(0.4)Ge_(0.6)/ Si(001)虚拟衬底上生长的应变Ge量子阱中的高迁移率空穴
机译:x> 0.4的Ge_(x)Si_(1-x)/ Si薄膜中60°和90°失配位错的形成和传播的特定特征
机译:SI_(0.6)GE_(0.4)外延层的光子计数的雪崩光电二极管结构
机译:银(001)和银(111)上超薄外延铬和氧化铁膜的生长和结构:通过X射线光电子衍射和低能电子衍射完成的综合研究。
机译:(100)/(001)取向四方外延Pb(Zr0.4Ti0.6)O3薄膜在电场作用下超快90°域转换的原位观察
机译:高分辨率x射线衍射揭示Si0.4Ge0.6 / Si(001)外延膜弛豫开始时的束错位错