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机译:钌的氧化物电化学及其在镶嵌铜电镀中的沟槽衬层应用
Electrodeposition; Copper; Ruthenium; Trench liner; Interconnects;
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机译:用于直接电镀铜屏障应用的原子层沉积(ALD)钌基合金的研制
机译:铜互连中用于衬里的CVD钌和非晶态钌-磷合金膜的生长与表征
机译:玛丽安娜海沟哈德海参(Paelopatides sp。)的铜锌超氧化物歧化酶的特征
机译:双镶嵌工艺优化铜电化学电化学研究