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机译:使用光致抗蚀剂回流和各向同性蚀刻的微流控器件制造圆形微通道
Department of Electronics, Kyungpook National University, 1370 Sankyuk-dong, Buk-ku, Daegu 702-701, Korea;
photoresist reflow; HNA etching; microchannel; microfluidic devices;
机译:用干膜光致抗蚀剂作为用于湿法蚀刻的图案转移掩模的玻璃基微流体器件的制造
机译:厚的单层正性光刻胶模具和聚二甲基硅氧烷(PDMS)干法蚀刻,用于制造玻璃PDMS-玻璃微流体器件
机译:快速制备高纵横比微流控器件的干膜光刻胶的优化和应用
机译:使用光致抗蚀剂回流和各向同性蚀刻制造圆柱型微通道
机译:研究微流控装置中的微通道制造方法和颗粒-液体流动特性
机译:基于干膜光致抗蚀剂的电化学微流控生物传感器平台:设备制造芯片上分析准备和系统操作
机译:用光致抗蚀剂为面膜制造玻璃基微流体装置