机译:低温大气转移等离子体去除Fe_3O_4薄膜
National Institute for Fusion Science, Toki 509-5292 Japan;
Department of Chemistry and Materials Science, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552 Japan;
atmospheric thermal transferred plasma; Fe_3O_4 film; oxygen potential; electrochemical reac-tion; local heating; removal;
机译:低温大气转移等离子体去除Fe 3 sub> O 4 sub>膜
机译:在大气压VHF等离子体中以高速率在低温(90-220℃)下生长的微晶硅膜
机译:常压等离子体化学气相沉积在低温下生长的无缺陷外延硅膜的光致发光研究
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