机译:通过VUV固化改进ArF光致抗蚀剂图案
Advanced Planning (Tokyo), Electronic Components and Device Development Group, Sharp Corporation, Tokyo, 162-8408 Japan;
UV cure; ArF; resist; dry etching resistance; LER;
机译:通过VUV固化改进ArF光致抗蚀剂图案
机译:通过VUV固化改进ArF光致抗蚀剂图案
机译:172nm VUV固化和使用梯度刮削制备的mu-FTIR干蚀刻工艺对ArF抗蚀剂中的结构进行深度剖析
机译:避免100nm ArF光刻中ArF抗蚀剂图案收缩的CD计量学
机译:VUV光化学:化学气相沉积和介电材料固化
机译:生物图案:精确的蛋白质光刻(P3):使用丝素蛋白轻链作为抗性的高性能生物图案(Adv。Sci。9/2017)
机译:ARF抗蚀剂的模式塌陷改善:表面活性剂加入漂洗和软烘烤的影响