プロトンビーム描画による光導波路デバイス形成の基礎検討

摘要

プロトンビーム描画（Proton Beam Writing：PBW ）は，次世代の微細加工技術として注目されているが，PMMAへのプロトン照射による屈折率向上効果を利用することによって，光導波路形成への応用も可能である．我々は，これまでに，PBWを利用してPMM直線導波路を試作し，波長1．55μmのシングルモード伝搬を確認しているが，今回我々は，導波実験からシングルモード条件の特定を試み，更にY分岐導波路の描画及び基本動作の確認を行ったので，報告する．%Proton beam writing (PBW) attracts recently much attention as a next-generation micro-fabrication technology. It is a direct writing technique and does not need any masks to transfer micro-patterns to sample surfaces. The refractive index of a poly(methyl methacralate) (PMMA) can be increased by proton irradiation. We have already succeeded in fabricating single-mode line waveguides for a wavelength of 1.55 μm using this technique. In this study, we fabricated Y-junction polymer waveguides consisting of PMMA layers by using the PBW technique.