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多重台形ナノチャネルAlGaN/GaN HEMTの電流制御性

机译:多梯形纳米沟道AlGaN / GaN HEMT的电流可控性

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摘要

We proposed and characterized a multi-mesa-channel (MMC) AlGaN/GaN HEMT. By forming a periodic trench, the MMC HEMT has parallel mesa-shaped channels with two-dimensional electron gas (2DEG) surrounded by the gate electrode. The MMC HEMT exhibited a steeper I_(ds)-V_(ds) curve in linear region and a higher transconductance than the planar HEMT, in spite of the fact that the effective gate width of the MMC device is about half of that for the planar device. The MMC HEMT shows excellent current stability in saturation region. From the result of current collapse measurement, the influence of current collapse was weak for the MMC structure because the MMC structure is rather insensitive to change in the access resistance due to high impedance channel.%ゲート電極直下のみに周期的トレンチ構造を形成した多重台形チャネル(MMC)AlGaN/GaN HEMT を作製し,評価を行った.DC特性の結果から,実効ゲート幅がプレーナ型HEMTの半分程度であるにもかかわらず,線形特性の改善やgm の向上が確認された.また,MMCHEMTにおいて優れた電流安定性が得られた.さらに,電流コラプス評価を行ったところ,MMCHEMTはプレーナ型HEMTに比べて,電流コラプスの影響が小さかった.理由として,高インピーダンスチャネルを有するため相対的にアクセス抵抗が低く,アクセス領域の変化に対して影響が小さいことがあげられる.
机译:我们提出并表征了一种多通道MAlGaN / GaN HEMT,通过形成周期性沟槽,MMC HEMT具有平行的台面形通道,二维电子气(2DEG)被栅电极包围。尽管MMC器件的有效栅极宽度约为平面器件的有效栅极宽度的事实,但HEMT在线性区域中呈现出更陡峭的I_(ds)-V_(ds)曲线和更高的跨导。 MMC HEMT在饱和区显示出出色的电流稳定性,从电流崩塌测量结果来看,由于MMC结构对高阻抗通道引起的访问电阻变化不敏感,因此对于MMC结构,电流崩塌的影响较弱。制作并评估了多梯形沟道(MMC)AlGaN / GaN HEMT,其中在栅电极正下方形成了周期性沟槽结构。从DC特性的结果证实,即使有效栅极宽度约为平面HEMT的一半,线性特性和gm也得到改善。另外,在MMCHEMT中获得了优异的电流稳定性。此外,当评估电流崩塌时,与平面HEMT相比,MMCHEMT受电流崩塌的影响较小。原因是访问阻抗相对较低,因为它具有高阻抗通道,并且对访问区域变化的影响很小。

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