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位相変調器用InGaAs/InAlAs五層非対称結合量子井戸の歪導入による特性改善の理論検討

机译:引入应变改善相位调制器InGaAs / InAlAs五层非对称耦合量子阱特性的理论研究

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摘要

InGaAs/InAlAs五層非対称結合量子井戸(FACQW)は,透明波長領域において巨大な屈折率変化を低電界・広波長域で得られ,高性能な光機能デバイスへの応用が期待される.これまで,InGaAs/InAlAsFACQWは,InP基板に対し格子整合するⅢ族組成比を用いて設計を行ってきたが,本研究では,Ⅲ族組成比を変化させることにより積極的に歪みを導入し,価電子帯構造を変化させることにより,より優れた電界誘起屈折率変化特性を有するFACQW構造を見出した.これにより,V_π・L(印加電圧と変調部長の積)が約1/2となり,さらなる低電圧駆動が期待される.%An InGaAs/InAlAs five-layer asymmetric coupled quantum well (FACQW) theoretically shows giant refractive index change over wide wavelength region at low applied voltage and is promising for high performance optical devices based on phase shift. By introducing strain to the FACQW, valence band dispersions are modified and it improves the FACQW's electrorefractive index changes. For instance, V_π·L (product of applying voltage and modulation length) decreases by half. The proposed strained FACQW is very promising for high-performance optical modulators and switches.
机译:InGaAs / InAlAs五层非对称耦合量子阱(FACQW)有望应用于高性能光学功能器件,因为它可以在低电场/宽波长范围内的透明波长范围内实现巨大的折射率变化。 ,InGaAs / InAlAsFACQW是通过与InP衬底晶格匹配的III族组成比设计的,在本研究中,通过改变III族组成比积极引入应变,价电子我们发现,通过改变能带结构,FACQW结构具有更优异的电场引起的折射率变化特性,结果,V_π·L(施加电压和调制器长度的乘积)减小到1/2左右,从而电压进一步降低。理论上,InGaAs / InAlAs五层非对称耦合量子阱(FACQW)在低施加电压下在宽波长范围内显示出巨大的折射率变化,并有望用于基于相移的高性能光学器件。对FACQW施加应变,修正了价带色散并改善了FACQW的电折射率变化,例如V_πL(施加电压和调制长度的乘积)减小了一半,提出的应变FACQW对于高性能光学器件非常有希望调制器和开关。

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