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放電電流過渡分光法を用いた犠牲酸化処理された高純度半絶縁性4H-SiC の欠陥評価

机译:放电电流瞬态光谱法评估牺牲氧化处理的高纯度半绝缘4H-SiC的缺陷

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摘要

当研究室で提案している放電電流過渡分光法(DCTS:Discharge Current Transient Spectroscopy)を用いて高純度半絶縁性4H-SiC の欠陥評価を行ってきた.しかし,半導体内部以外(特に,表面)を定常的に流れる電流が解析に影響していると考えられるため,表面を犠牲酸化処理し,表面電流の低減を試みた.その結果,逆方向電圧100V での漏れ電流は約40%低減できた.このダイオードを用いて,313Kから428Kまでを5K間隔で過渡逆方向電流を測定し,DCTS 法で解析した結果,6種類の欠陥が検出でき,それぞれの活性化エネルギーと捕獲断面積を求めることができた.%To determine the energy levels of intrinsic defects in high-purity semi-insulating 4H-SiC, we apply DCTS (Discharge Current Transient Spectroscopy) that is a graphical peak analysis method based on the transient reverse current of a Schottky barrier diode. However, these transient currents consisted of currents not only in the bulk, but also on the surface of the diode. Therefore, the diode was fabricated with the treatment of sacrificial oxidation. As a result, sacrificial oxidation could dramatically reduce the surface currents of diodes in high-purity semi-insulating 4H-SiC. Using this diode, transient reverse currents measured from 313 K to 428 K were analyzed by DCTS, and six types of intrinsic defects are detected in sacrificial-oxidized high-purity semi-insulating 4H-SiC. From the temperature dependence of the emission rate of each intrinsic defect, its activation energy and capture cross section are determined.
机译:我们已经使用我们实验室提出的放电电流瞬态光谱法(DCTS)对高纯度半绝缘4H-SiC进行了缺陷评估。但是,由于认为在半导体内部(特别是在表面上)稳定流动的电流会影响分析,因此我们试图通过牺牲表面来减小表面电流。结果,反向电压为100 V时的泄漏电流降低了约40%。使用该二极管,以5K的间隔测量从313K到428K的瞬态反向电流,并通过DCTS方法进行分析,结果可以检测出六种类型的缺陷,并且可以获得每种缺陷的活化能和陷阱截面。做到了。 %为了确定高纯度半绝缘4H-SiC中固有缺陷的能级,我们应用了DCTS(放电电流瞬态光谱法),这是一种基于肖特基势垒二极管的瞬态反向电流的图形峰值分析方法。这些瞬态电流不仅包括整体电流,还包括二极管表面的电流,因此,在对二极管进行牺牲氧化处理后制造了二极管,因此牺牲氧化可以大大降低二极管的表面电流。高纯度半绝缘4H-SiC。使用该二极管,通过DCTS分析了从313 K到428 K的瞬态反向电流,并在牺牲氧化高纯度半绝缘4H-SiC中检测到六种本征缺陷。根据每个固有缺陷的发射速率的温度依赖性,可以确定其活化能和捕获截面。

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