机译:放电电流瞬态光谱法评估牺牲氧化处理的高纯度半绝缘4H-SiC的缺陷
大阪電気通信大学大学院工学研究科電子通信工学専攻 〒572-8530 大阪府寝屋川市初町18番8号;
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放電電流過渡分光法; 高純度半絶縁性4h-sic; 犠牲酸化処理; 真性欠陥; 活性化エネルギー; 捕獲 断面積;
机译:放电电流瞬态光谱法评估牺牲氧化处理的高纯度半绝缘4H-SiC的缺陷
机译:用放电电流瞬态光谱处理的牺牲氧化高纯度半分离的4H-SiC的缺陷评估
机译:牺牲氧化处理对高纯半绝缘4H-SiC放电电流瞬态光谱法缺陷评估的影响
机译:进行高温退火和热氧化处理的高纯度半绝缘4H-SiC基板的电性能评估
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