ミストデポジション法による酸化マグネシウム（MgO）薄膜作製: 大気圧下、低温成長への挑戦

摘要

酸化マグネシウム（MgO）薄膜はディスプレイなどの保護膜や反射防止膜として、開発要望が高いが、現在その作製方法の大半は、真空状態で行う装置を用いなければならない手法である。これは、大気圧下で酸化マグネシウム（MgO）薄膜を作製する場合、500℃程度の高温状態が必要であり、ガラス基板へ直接成長が困難であるという理由が大きいからであると考えられる。そこで我々はミストデポジション法を用いてガラス基板上へ酸化マグネシウム（MgO）薄膜の作製を試みた。ミストデポジション法は、大気圧下で金属酸化物薄膜の成長が可能であり、これまでに酸化亜鉛（ZnO）、酸化ガリウム（Ga_2O_3）、酸化錫（SnO）、酸化インジウム（In_2O_3）、酸化鉄（Fe_2O_3）等の作製に成功している。本発表では、酸化マグネシウム（MgO）薄膜の作製方法や結晶性などについて報告する。%Magnesium oxide (MgO) thin film is useful as the protective film for plasma display and the antireflective film. Therefore, the development of method which can prepare the high quality MgO thin film with low utility cost and environment-friendly is very important. Currently, almost all of the fabrication methods of MgO thin film are the techniques operated with vacuum state. The reason is that the direct growth to the glass substrate is very difficult because the high temperature above 500 ℃ which is not suitable for glass substrate due to the near glass transition temperatures is necessary to prepare the MgO thin film under the atmospheric pressure. Then, we tried making MgO thin film on the glass substrate with mist deposition. Material oxide thin films such as zinc oxide, gallium oxide, tin oxide, indium oxide, ferric oxide, and so on, can be prepared at atmospheric pressure with mist deposition. In this conference, we report on the conditions and the preparations of MgO thin films.