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机译:超声清洗碳酸氨溶液中的毯子和图案样品,以增强颗粒去除效果并减少特征损伤
Department of Chemical and Environmental Engineering, University of Arizona, Tucson, AZ, USA;
${rm CO}_2$(aq.); Megasonic cleaning; feature damage; particle removal efficiency (PRE); sonoluminescence (SL);
机译:超声和大声波清洗氨水溶液中纳米级图案的适合性,用于去除颗粒和破坏特征
机译:超声清洗溶剂中硅晶片的颗粒去除效率和损伤分析
机译:异位产生气泡,提高了单晶片兆声波清洗工艺的颗粒去除率
机译:单晶圆清洗和干燥:通过非接触,非损坏的巨型清洁颗粒去除,然后是高性能“Rotagoni”干燥
机译:使用碳酸氨溶液去除颗粒并减少特征损伤,从而增强了超音速清洁过程。
机译:具有减小的特征尺寸和干净的刻蚀阻挡层结构的增强型a-IGZO TFT可靠性
机译:使用碳酸氨溶液去除颗粒并减少特征损伤,以增强兆声波清洁工艺
机译:评估sC-1 / megasonic清洁用于低于0.15微米的颗粒去除