机译:30 keV氦离子注入后电沉积钨涂层的微观结构
Xinxiang Univ Coll Chem & Chem Engn 191 Jinsui Rd Xinxiang 453003 Henan Peoples R China;
Xinxiang Univ Sch Mech & Elect Engn 191 Jinsui Rd Xinxiang 453003 Henan Peoples R China;
Univ Sci & Technol Beijing Sch Mat Sci & Engn 30 Xueyuan Rd Beijing 100083 Peoples R China;
Electrodeposition; Tungsten coating; Helium ion implantation; Microstructure evolution; Grain orientation;
机译:在正常入射和高温下多晶钨对30 keV氦离子注入的响应
机译:将30 keV氦注入石墨烯包覆的钨中
机译:60 keV氦离子注入下5%钽掺杂的钨中的大塑性变形起泡和氦气保留
机译:评估碳化钨热喷涂涂层作为电镀铬替代品的决策过程示例
机译:用于功能化植入物应用的电沉积丝绸涂料。
机译:等轴纳米晶钨和超细钨-TiC合金的原位氦注入和对氦气气泡损伤的辐射耐受性的TEM研究
机译:等轴纳米晶钨氦血泡损伤辐射耐受的原位氦气植入和TEM调查及超细钨钛合金