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机译:第一部分:对AlGaN / GaN HEMT中GaN缓冲液中碳掺杂引起的延迟雪崩作用的物理观察
Department of Electrical Engineering, IIT Jodhpur, Jodhpur, India;
Department of Electrical Engineering, IIT Jodhpur, Jodhpur, India;
Department of Electronic Systems Engineering, Advanced Nanoelectronic Device and Circuit Research Laboratory, Indian Institute of Science, Bengaluru, India;
Gallium nitride; Aluminum gallium nitride; Wide band gap semiconductors; HEMTs; MODFETs; Leakage currents; Electron traps;
机译:通过低频S参数测量和基于TCAD的物理设备仿真识别微波功率AlGaN / GaN HEMT中的GaN缓冲阱
机译:直径为6英寸的Si衬底金属-有机气相外延系统上的高生长速率AlGaN缓冲层和用于AlGaN / GaN HEMT的低碳GaN的大气压生长
机译:p-GaN栅极AlGaN / GaN HEMT中无意识掺杂的GaN缓冲层中的陷阱引起的负跨导效应
机译:AlGaN / GaN HEMT中热电子与碳掺杂GaN缓冲液的相互作用:与横向电场和器件故障的关系
机译:GaN-SiC界面处具有GaN微坑的AlGaN / GaN HEMT中的散热分析
机译:具有高栅极和多凹槽缓冲器的新型高能效AlGaN / GaN HEMT
机译:通过低频s参数测量和基于TCaD的物理器件仿真识别微波功率alGaN / GaN HEmT中的GaN缓冲阱