電子線ホログラフィを用いた化合物半導体解析法を確立: 微量な不純物濃度差を捉えることに世界で初めて成功

摘要

古河電気工業(株)は，(一財)ファインセラミックスセンター(以下，JFCC)との共同研究で，電子線ホログラフィを用いた化合物半導体中の不純物分布解析手法を確立した。本研究では，化合物半導体のpn接合だけではなく，極めて微量な不純物濃度差を捉えることに世界で初めて成功した。同社の光通信，産業用レーザ製品は，化合物半導体材料を用いて作製し，微量の不純物を混入させてデバイス構造を設計している。これらの製品はナノレベルで構成されているため，製造及び開発する上で，製品中の不純物分布もナノレベルで解析することが必要となっている。