...
机译:反应性直流磁控共溅射钛酸锆薄膜的介电和光学性能
Materials research laboratory Dept. of Physics Sri Krishnadevaraya University Anantapuramu-515003 A.P. India;
College of Physics and Energy Shenzhen University Shenzhen P.R. China-518060;
Dept. of Physics Annamacharya Institute of Tech. & Sci.' Ra;
Substrates; Dielectrics; Temperature; Optical films; Surface morphology; Surface treatment;
机译:活性直流磁控共溅射制备ZrTiO4薄膜的介电性能
机译:直流和射频反应磁控共溅射合成Zn1-xCdxO薄膜的结构形成和光学性质的研究
机译:直流和射频反应磁控共溅射合成Zn1-xCdxO薄膜的结构形成和光学性质的研究
机译:厚度对氮化锆薄膜的微观结构,电和光学性质在室温下DC反应磁控溅射制备的氮化锆薄膜
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:活性直流磁控共溅射沉积纳米结构TiZrN薄膜的表征