机译:通过聚合物的区域选择性蚀刻自对准薄膜图案化
机译:通过数字光刻和电镀制造的自对准聚合物薄膜晶体管的精细图案
机译:使用新的具有连续刻蚀方案的双光罩工艺的自对准a-IGZO薄膜晶体管
机译:顶部栅极干蚀刻图案化聚合物薄膜晶体管,在通道顶部具有保护层
机译:自组装单分子膜在同步加速器辐射蚀刻图案上的区域选择性沉积
机译:自对准双图案的蚀刻研究
机译:使用新的具有连续刻蚀方案的双光罩工艺的自对准a-IGZO薄膜晶体管
机译:采用新型双光掩模工艺和连续蚀刻方案的自分配a-IGZO薄膜晶体管
机译:远(深)紫外高强度激光(准分子)辐射脉冲在聚合物中的孔形成(蚀刻)及其与聚合物深紫外光解中光刻胶的相关性