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Medidas dos índices de refra??o de materiais fotossensíveis utilizando o método de Abelès

机译:使用Abelès方法测量光敏材料的折射率

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摘要

Fotorresina positiva AZ-1518 é um exemplo de material fotossensível amplamente usado em processos litográficos em microeletr?nica e em óptica para fabrica??o de componente de relevo. Esta fotorresina é formada pelo composto fotoativo (PAC) e de uma matriz, que é uma resina espessa denominada novolak. Quando exposta à radia??o ultravioleta, rea??es químicas induzidas modificam as suas propriedades físicas e químicas. Filmes finos homogêneos desses materiais fotossensíveis foram preparados sobre substratos de vidro. Este trabalho tem como objetivo medir o índice de refra??o dos filmes, n?o expostos e expostos à radia??o ultravioleta, utilizando o método Abelès. A partir das medidas das varia??es do índice de refra??o dos filmes fotossensíveis é possível obter a medida da taxa de decaimento do composto fotoativo (PAC) por unidade de intensidade. Medidas desta taxa fornecem indica??es importantes da cinética química microscópica desses materiais fotossensíveis. Os resultados mostram que a precis?o do método é suficiente para medir as varia??es do índice de refra??o desses tipos de materiais fotossensíveis.
机译:AZ-1518正光树脂是光敏材料的一个示例,该光敏材料广泛用于微电子和光学平版印刷工艺中,用于制造凸版组件。该光树脂由光活性化合物(PAC)和基质(一种称为酚醛清漆的粘稠树脂)形成。当暴露于紫外线下时,诱发的化学反应会改变其物理和化学性质。在玻璃基板上制备这些光敏材料的均质薄膜。这项工作旨在使用Abelès方法测量未曝光和未曝光于紫外线的薄膜的折射率。从光敏膜的折射率变化的测量结果中,可以获得每单位强度的光活性化合物(PAC)的衰减率的测量结果。该速率的测量提供了这些光敏材料的微观化学动力学的重要指示。结果表明,该方法的准确性足以测量这些类型的光敏材料的折射率变化。

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