机译:低栅极电压应力下具有超薄栅极氧化物的90 nm栅极长度LDD- NMOSFET的热载流子退化
School of Microelectronics, Xidian University, Xi'an 710071, China;
threshold voltage; lightly doped drain; gate-induced drain leakage current; hot hole;
机译:低栅极电压应力下具有超薄栅极氧化物的90 nm栅极长度LDD-NMOSFET的热载流子退化
机译:热载流子应力对部分耗尽SOI nMOSFET的薄栅氧化物的栅极感应浮体效应和漏极电流瞬变的影响
机译:热载流应力对具有超薄栅极氧化物的90nm LDD-MOSFET中GIDL和SILC的影响
机译:具有SiN膜的NMOSFET在氢引起的低栅极电压应力下提高热载流子引起的退化
机译:紧凑的栅极电容和栅极电流建模,可用于超薄(EOT〜1 nm及以下)二氧化硅和高kappa栅极电介质。
机译:大麻诱导的高葡萄糖诱导的氧化胁迫和心脏电压门控钠通道的细胞毒性
机译:恒压应力下超薄栅极氧化物MOS电容器的TDDB特性及基板热载体喷射
机译:多晶硅栅极对具有薄栅氧化层的亚100nm mOsFET中随机掺杂诱导阈值电压波动的影响