机译:激光背面蚀刻过程中固/液界面的原位反射率研究
Leibniz Inst Oberflachenmodifizierung EV, D-04318 Leipzig, Germany;
laser; etching; fused silica; solid/liquid interface; time-resolved reflectivity; UV-TRANSPARENT MATERIALS; FUSED-SILICA; EXCIMER-LASER; ORGANIC SOLUTION; ABLATION; SURFACE; GLASS; TOLUENE; BENZENE; PULSES;
机译:原位液体细胞TEM研究在固液 - 气体界面处的金纳米粒子蚀刻和生长机制
机译:使用KMnO 4 SUB>溶液作为吸收液的可见超短激光脉冲激光诱导SiO 2 SUB>的背面湿法刻蚀
机译:使用绿色DPSS激光和液态金属吸收剂的激光诱导背面湿蚀刻
机译:用于固体/液体界面吸附过程动力学的无损激光系统
机译:使用X射线反射率观察固体嵌段液体中的分子层分子
机译:通过组合激光诱导的背面湿法蚀刻和激光诱导的化学液相沉积方法将耐用的微铜图案沉积到玻璃中
机译:液体环境对熔化二氧化硅激光诱导的背面湿法蚀刻的影响