机译:通过缩短脉冲来改善脉冲激光沉积碳化硼薄膜的性能
Univ Szeged, Hungarian Acad Sci, Res Grp Laser Phys, H-6701 Szeged, Hungary;
Univ Szeged, Dept Opt & Quantum Elect, H-6701 Szeged, Hungary;
PLD; thin films; thickness distribution; ultrashort pulse processing; surface morphology; nanostructure; THIN-FILMS; ABLATION; FLUENCE; PLD;
机译:在确定脉冲激光沉积的碳化硼薄膜的化学成分时,激光能量密度和目标劣化的综合作用
机译:脉冲激光沉积制备碳化硼超薄膜的化学结构和微机械性能
机译:掺硼对飞秒和纳秒脉冲激光烧蚀沉积的类金刚石碳膜结构和电性能的影响
机译:脉冲激光烧蚀沉积的无定形碳化硅膜的光学性能的热退火效应
机译:脉冲激光沉积氮化钛薄膜的结构和电性能
机译:脉冲激光沉积沉积的Nb掺杂SrsnO3外延膜的电气和光学性能
机译:许多激光脉冲对由673K脉冲激光沉积(PLD)技术沉积的CuO薄膜光学性质的影响
机译:脉冲激光沉积氮化硼薄膜的X射线吸收研究