机译:逆脉冲激光沉积的取向独立性
Univ Szeged, Res Grp Laser Phys, Hungarian Acad Sci, H-6701 Szeged, Hungary;
Univ Szeged, Dept Opt & Quantum Elect, H-6701 Szeged, Hungary;
inverse pulsed laser deposition; orientation of target; stylus profilometry; carbon nitride; CARBON NITRIDE FILMS; THICKNESS DISTRIBUTION; PLD;
机译:脉冲激光沉积抗尖晶石Nico_2O_4外延薄膜磁性特性对脉冲激光沉积的影响
机译:脉冲激光沉积沉积温度对(K_(0.5)Na_(0.5))NbO_3薄膜取向和电性能的影响
机译:沉积温度和基底取向对脉冲激光沉积在铂基底上生长的Pr0.7Ca0.3MnO3薄膜微结构的影响
机译:蓝宝石衬底取向对脉冲激光沉积生长的标称未掺杂β-Ga_2O_3薄膜性能的影响研究
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:通过脉冲激光沉积纳米组在三维微物体上生长
机译:硅上硫化锌薄膜的脉冲激光沉积:衬底取向和制备对薄膜形态和织构的影响