机译:在背面吸附层上对透明材料进行激光蚀刻
Leibniz Inst Oberflachenmodifizierung eV, D-04318 Leipzig, Germany;
excimer laser; laser etching; adsorbed layer; fused silica; quartz; sapphire; magnesium fluoride; MgF2; FUSED-SILICA; EXCIMER-LASER; ABLATION; TOLUENE; PULSES; QUARTZ;
机译:纳秒级紫外激光器对透明材料进行背面刻蚀的机理
机译:纳秒级紫外激光器对透明材料进行背面刻蚀的机理
机译:使用固态和熔融锡作为吸收剂的透明材料的激光诱导背面干法和湿法蚀刻
机译:准分子激光通过激光诱导的背面湿法蚀刻对透明材料进行表面微结构化
机译:使用准分子激光(248 nm)对硼硅酸盐玻璃进行微加工,并通过激光诱导对石英进行背面湿蚀刻。
机译:铝选择复合材料在频率选择表面上的纳秒激光蚀刻
机译:激光诱导的背面湿法蚀刻玻璃材料的表面微结构
机译:皮质激光化学材料吸附在表面上