机译:共掺杂Zno薄膜中铁磁性的掺杂浓度和退火温度依赖性
School of Chemistry and Materials Science, Shanxi Normal University, Linfen, Shanxi 041004, PR China;
zncoo films; magnetic measurements; x-ray diffraction; post-annealing;
机译:Fe掺杂浓度和退火温度对溶胶-凝胶法沉积ZnO薄膜结构和光学性能的影响
机译:透明导电铟和氟共掺杂ZnO薄膜的开发:F浓度和后退火温度的影响
机译:Al浓度和退火温度对Al共掺杂ZnO薄膜结构,光学和电学性质的影响
机译:BAW器件共掺杂AlN薄膜机电耦合系数的掺杂浓度依赖性
机译:ZnO和ZnO基薄膜合金退火的函数的温度依赖带边缘分布分析
机译:基材工艺条件和生长ZnO薄膜性能的底蛋白温度通过连续的离子层吸附和反应方法
机译:高温退火后(CE,YB)共掺杂ZnO薄膜的强带边缘发射强
机译:非掺杂ZnO薄膜中离子辐照诱导的铁磁性。