机译:基于Pdms的光刻技术对未固化Pdms链在印章中的影响
Research and Development Center, LG.Philips LCD, 533 Hogae-dong, Dongan-gu, Anyang-shi, Gyongki-Do 431-080, Republic of Korea;
pdms stamp; non-conventional lithography; ink; solubility parameter;
机译:使用基于PDM的相移光刻技术对大型PDM和硅纳米流体器件进行高效原型设计
机译:新型有机可光固化纳米压印抗蚀剂“ MR-NIL210”使用基于PDMS的软印章进行大批量加工的方法
机译:通过软光刻和喷墨印刷技术获得的基于PDMS的磁致可变光学衰减器
机译:通过复制干扰光刻制造的Si纳米模具制备PDMS纳米印章
机译:氧扩散的分子动力学研究渗透到未交联的聚二甲基硅氧烷(PDMS),交联的PDMS和基于PDMS的纳米复合材料中
机译:使用聚二氰胺作为间隔胶原的PDMS基微流体装置的表面改性以增强原发性人支气管上皮细胞粘附性
机译:使用基于PDM的相移光刻技术对大型PDM和硅纳米流体器件进行高效原型设计