机译:退火温度对溶胶-凝胶浸涂法制备掺汞TiO_2薄膜性能的影响
Departement de Medecine, Faculte de Medecine, Universite Hadj LakhdarBatna, Batna, Algeria,Laboratoire de Photovoltdique de Semi-conducteurs et de Nanostructures, Centre de Recherche et des Technologies de I'Energie (CRTEn), BP. 95, Hammam-Lif 2050, Tunisia;
Laboratoire de Photovoltdique de Semi-conducteurs et de Nanostructures, Centre de Recherche et des Technologies de I'Energie (CRTEn), BP. 95, Hammam-Lif 2050, Tunisia;
Departement de Medecine, Faculte de Medecine, Universite Hadj LakhdarBatna, Batna, Algeria,Laboratoire de Photovoltdique de Semi-conducteurs et de Nanostructures, Centre de Recherche et des Technologies de I'Energie (CRTEn), BP. 95, Hammam-Lif 2050, Tunisia;
Laboratoire de Photovoltdique de Semi-conducteurs et de Nanostructures, Centre de Recherche et des Technologies de I'Energie (CRTEn), BP. 95, Hammam-Lif 2050, Tunisia;
TiO_2; Thin films; Sol-gel; Hg-doped; Anatase; Band gap; Annealing temperature;
机译:退火温度对溶胶-凝胶模板法制备介孔TiO_2薄膜结构和光学性能的影响
机译:重复退火温度对浸涂溶胶-凝胶法制备的T_02薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:Zn + 2掺杂和退火温度对溶胶 - 凝胶浸涂法制备的纳米结构TiO2薄膜生成的影响及其光催化应用
机译:通过改性溶胶 - 凝胶法制备Fe掺杂TiO_2薄膜结构和光学性能的影响
机译:退火温度对Sol-Gel ZnO薄膜力学性能的影响。
机译:退火温度对溶胶-凝胶三氧化钨薄膜光学带隙的影响
机译:退火温度对溶胶 - 凝胶浸涂制备的Al掺杂ZnO薄膜性能的影响