机译:在锗和硅表面上可控化学沉积铜薄膜的特性
Department of Chemistry and Materials Science and Engineering Program, Washington State University, Pullman, WA 99164-4630, United States;
Department of Chemistry, University of Idaho, Moscow, ID 83844-2343, United States;
Department of Chemistry, University of Idaho, Moscow, ID 83844-2343, United States;
Electroless deposition,Copper films,Oxidation,Silicon substrate,Germanium substrate;
机译:锗表面上贵金属纳米颗粒膜的可控化学沉积
机译:用于表面控制化学沉积方法的硫化合物的表征,用于在锗上制备银纳米颗粒以进行表面增强的红外吸收测量
机译:用于表面控制化学沉积方法的硫化合物的表征,用于在锗上制备银纳米颗粒以进行表面增强的红外吸收测量
机译:无电沉积沉积硅表面金薄膜的退火效果
机译:界面电化学和表面表征:氢封端的硅,在热解光刻胶膜上化学沉积的钯和铂,在铱上电沉积铜。
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:锗表面贵金属纳米粒子膜的可控化学沉积