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机译:厚度对RF溅射沉积Nb + Ta共掺杂TiO_2薄膜结构,形貌,电学和光学性质的影响
Huazhong Univ Sci & Technol, Sch Phys, Luoyu Rd, Wuhan 430074, Hubei, Peoples R China;
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机译:厚度对线性面对靶溅射生长的Al和Ga共掺杂ZnO薄膜的电,光学,结构和形态性能的影响
机译:溅射沉积Nb掺杂TiO_2(TNO)多晶膜的结构,电学和光学性质
机译:低能Kr〜(5+)离子束工程在RF溅射TiO_2薄膜的光学,结构,表面形态和电学性质方面的研究
机译:厚度对RF磁控溅射沉积的铝掺杂ZnO膜结构,电和光学性质的影响
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:高能反应磁控溅射制备(Ti,Nb)Ox薄膜的结构,光学和电学性能研究