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Interface roughness scattering in laterally coupled InGaAs quantum wires

机译:横向耦合InGaAs量子线中的界面粗糙度散射

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摘要

Conductivity of In0.38Ga0.62As quantum wires grown on the u0002311u0003A plane of GaAs was studied usingntemperature dependent Hall effect. Detailed analysis of the scattering phenomena which controlnelectron mobility along the wires indicates that the most significant scattering mechanism whichnlimits electron mobility at low temperatures is scattering from interface roughness. This findingncontributes to the general understanding of the potential to use self-assembled semiconductornquantum wires in the fabrication of thermoelectric devices where one-dimensionality and enhancednscattering at rough boundaries are important. © 2010 American Institute of Physics.nu0004doi:10.1063/1.3532098
机译:利用与温度相关的霍尔效应,研究了在GaAs的u0002311u0003A平面上生长的In0.38Ga0.62As量子线的电导率。对控制沿线的电子迁移率的散射现象的详细分析表明,限制低温下电子迁移率的最重要的散射机制是界面粗糙度的散射。这一发现有助于人们对在热电器件的制造中使用自组装半导体量子线的潜力的一般理解,在热电器件中,一维性和在粗糙边界处的增强散射很重要。 ©2010美国物理研究所.nu0004doi:10.1063 / 1.3532098

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2010年第26期|p.1-3|共3页
  • 作者单位

    Department of Physics, University of Arkansas, Fayetteville, Arkansas 72701, USA2V. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, NAS of Ukraine, Kiev 03028, Ukraine3School of Electrical and Computer Engineering, Oklahoma State University, Stillwater Oklahoma 74078,USA;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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