机译:无铅铁电体K,Na…NbO3-LiTaO3-LiSbO3薄膜的漏电流行为
Glenn Howatt Electroceramics Laboratories, Department of Materials Science and Engineering, Rutgers,The State University of New Jersey, New Jersey 08854, USA;
机译:无铅铁电(K,Na)NbO_3-LiTaO_3-LiSbO_3薄膜中的漏电流行为
机译:非掺杂和Mn掺杂的无铅铁电K0.5Na0.5NbO3薄膜的结构,电性能和漏电流行为
机译:非掺杂和Mn掺杂的无铅铁电K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3薄膜的结构,电性能和漏电流行为
机译:铁电HF_(0.5)Zr_(0.5)O_2薄膜中漏电流机制
机译:无铅铁电薄膜中各向异性相边界的外延稳定化
机译:SrTiO3上沉积的无铅铁电K0.5Na0.5NbO3薄膜的原子分辨界面结构
机译:脉冲激光沉积法生长(K₀.₄₈Na₀.₄₈Li₀.₀₄)(Nb₀.₇₇₅Ta₀.222₅)O₃薄膜的铁电,压电和泄漏电流特性