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Nanoscale imaging and control of resistance switching in VO2

机译:VO2中的纳米级成像和电阻切换控制

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摘要

We demonstrate controlled local phase switching of a VO2 film using a biased conducting atomicnforce microscope tip. After application of an initial, higher “training” voltage, the resistancentransition is hysteretic with IV loops converging upon repeated voltage sweep. The threshold Vsetntoninitiate the insulator-to-metal transition is on order u00045 V at room temperature, and increases at lowntemperature. We image large variations in Vsetnfrom grain to grain. Our imaging technique opens upnthe possibility for an understanding of the microscopic mechanism of phase transition in VO2 asnwell as its potential relevance to solid state devices. © 2010 American Institute of Physics.nu0005doi:10.1063/1.3435466
机译:我们演示了使用偏置导电atomicforce显微镜尖端对VO2薄膜进行可控的局部相位切换。施加初始的较高“训练”电压后,电阻n过渡将发生滞后,IV环路会在反复进行电压扫描时收敛。引发绝缘体到金属转变的阈值Vsetnton在室温下约为u00045 V,而在低温下则增加。我们对Vsetn中每个晶粒的大变化进行了成像。我们的成像技术为了解VO2相变的微观机理以及与固态器件的潜在相关性开辟了可能性。 ©2010美国物理研究所.nu0005doi:10.1063 / 1.3435466

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2010年第21期|p.1-3|共3页
  • 作者单位

    Department of Physics, Harvard University, Cambridge, Massachusetts 02138, USA2School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, Massachusetts 02138, USA;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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