机译:溅射沉积WCx薄膜的热退火法生长和表征碳化钨纳米线
Natl Cheng Kung Univ, Dept Elect Engn, Inst Microelect, Tainan 70101, Taiwan;
ELECTRON FIELD-EMISSION; CARBON THIN-FILMS; AMORPHOUS-CARBON; DIAMOND; NANOTUBES;
机译:WC_x薄膜自合成碳化钨纳米线的热退火条件
机译:使用退火/氧化工艺从溅射沉积的WC_x膜制备氧化钨纳米线
机译:生长温度,热退火和氮掺杂对溅射沉积ZnTe薄膜光电性能的影响
机译:碳化硅纳米薄膜的热表征
机译:通过快速热化学气相沉积在硅上形成β-碳化硅薄膜的成核,外延生长和表征。
机译:通过快速热退火工艺增强氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:溅射沉积碳化钨薄膜的纳米尺寸结构