机译:UV纳米压印光刻技术的抗粘着性考虑因素
机译:双锚固氟化分子用于UV纳米压印光刻中的防粘模处理
机译:一种简单新颖的方法,用于评估UV纳米压印光刻(UV-NIL)中的UV固化树脂与印模之间的粘合性能
机译:树脂模具的高分辨率UV卷对卷纳米压印,随后通过热纳米压印光刻复制
机译:用分子动力学方法对抗粘附层(CH {Sub} 2)纳米压印光刻的研究
机译:分步和快速压印光刻:低压,室温纳米压印光刻。
机译:紫外线印刷光刻:几何冲击纳米级图案填充性能
机译:高效闪光光栅的制造与复制灰度电子束光刻和UV纳米压印光刻