机译:自组织荫罩离子光刻技术放大纳米图案
Dipartimento di Fisica, Universita degli Studi di Genova and CNISM, via Dodecaneso 33,16146 Genova, Italy;
Dipartimento di Fisica, Universita degli Studi di Genova and CNISM, via Dodecaneso 33,16146 Genova, Italy Istituto Italiano di Tecnologia, via Morego 30, 16163 Genova Italy;
Dipartimento di Fisica, Universita degli Studi di Genova and CNISM, via Dodecaneso 33,16146 Genova, Italy Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences,Beijing 100190, China;
Dipartimento di Fisica, Universita degli Studi di Genova and CNISM, via Dodecaneso 33,16146 Genova, Italy;
Dipartimento di Fisica, Universita degli Studi di Genova and CNISM, via Dodecaneso 33,16146 Genova, Italy;
机译:自组织荫罩离子光刻技术放大纳米图案
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机译:高分辨率纳米透明机构:近期纯粹和经济高效的自上而下的光刻的最新进展,用于≈10nm尺寸纳米图:从边缘光刻到次级溅射光刻(ADV。Mater。35/2020)
机译:用于亚100nm通道长度晶体管的X射线光刻技术,采用常规光刻,各向异性蚀刻和斜阴影制作的掩模