机译:等离子体相互作用决定了脉冲激光沉积薄膜中的成分
Paul Scherrer Institute, CH-5232 Villigen PSI, Switzerland;
Laboratory of Ion Beam Physics, ETH Zurich, CH-8093 Zurich, Switzerland;
Paul Scherrer Institute, CH-5232 Villigen PSI, Switzerland;
Paul Scherrer Institute, CH-5232 Villigen PSI, Switzerland;
Paul Scherrer Institute, CH-5232 Villigen PSI, Switzerland;
Paul Scherrer Institute, CH-5232 Villigen PSI, Switzerland;
Paul Scherrer Institute, CH-5232 Villigen PSI, Switzerland;
机译:等离子体密度对脉冲激光沉积TiAlN薄膜化学成分和结构性能的影响
机译:在确定脉冲激光沉积的碳化硼薄膜的化学成分时,激光能量密度和目标劣化的综合作用
机译:脉冲激光沉积PZT薄膜的残余应力和杨氏模量:薄膜组成和Si悬臂晶体方向的影响
机译:通过脉冲准分子激光烧蚀技术沉积的成分调制的Pb(Mg / sub 1/3 / Nb / sub 2/3 /)O / sub 3 / -PbTiO / sub 3 /弛豫薄膜
机译:纳秒和飞秒激光脉冲与碳的相互作用:沉积具有新颖成分的碳膜。
机译:脉冲激光沉积锡薄膜微观结构形态依赖性的数值研究和机械测试中应变异质的数量研究
机译:通过等离子体/ AR相互作用对脉冲激光沉积铜(I)硫属化物薄膜的组成控制
机译:脉冲激光沉积Y-Ba-Cu-O和Ba-K-Bi-O薄膜的组成