silicon carbide; chemical vapor deposition; atomic layer deposition; microelectromechanical systems; nanoelectromechanical systems;
机译:射频功率和气体流量比对MEMS应用PECVD SiC薄膜生长和形貌的影响
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机译:LPCVD沉积的用于射频MEMS的掺杂多晶3C-SiC薄膜
机译:LPCVD SiC薄膜在高温下的特性,可用于稳健的MEMS传感器应用
机译:合金化对微电子和MEMS / NEMS应用中贵金属薄膜力学性能的影响
机译:低力下MEMS和NEMS DC开关中接触电阻的不稳定性:外来膜在接触表面上的作用
机译:用于M / NEMS应用的3C-SiC缓冲层上沉积多晶AlN薄膜的特征
机译:绝缘基板上的siC薄膜用于稳健的微机电系统(mEms)应用