机译:组成界面和沉积顺序对原子层沉积在硅上生长的纳米Ta2O5-Al2O3薄膜电学性能的影响
Ta2O5 Nanolayered films Electrical property Atomic layer deposition Post-annealing;
机译:组成,界面和沉积顺序对Ta
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机译:通过原子层沉积在硅和玻璃基板上产生的TiO2薄膜的光学,电和晶体性能
机译:用原子层沉积在N型4H-SIC上生长的氧化铝膜的电性能
机译:通过原子层沉积生长的纳米级氧化锆和氧化f电介质:结晶度,界面结构和电性能。
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:用原子层沉积在硅上生长的纳米制剂Ta2O5-Al2O3薄膜电性能的作用,界面和沉积序列