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Determination of the electrostatic potential distribution in Pt/Fe:SrTiO3/Nb:SrTiO3 thin-film structures by electron holography

机译:电子全息法测定Pt / Fe:SrTiO3 / Nb:SrTiO3薄膜结构中的静电势分布

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摘要

We determined the electrostatic potential distribution in pristine Pt/Fe:SrTiO3/Nb:SrTiO3 structures by electron holography experiments, revealing the existence of a depletion layer extending into the Nb-doped bottom electrode. Simulations of potential profiles in metal-insulator-metal structures were conducted assuming different types and distributions of dopants. It is found that the presence of acceptor-type dopant concentrations at the Fe:SrTiO3/Nb:SrTiO3 interface with a donor-doped insulating layer provides a good match to the measured profile. Such acceptor-type interface concentrations may be associated with Sr vacancies on the Nb:SrTiO3 side of the bottom interface.
机译:我们通过电子全息实验确定了原始Pt / Fe:SrTiO3 / Nb:SrTiO3结构中的静电势分布,揭示了耗尽层延伸到掺Nb的底部电极中的存在。在假设掺杂剂的类型和分布不同的情况下,对金属-绝缘体-金属结构中的电位分布进行了模拟。发现在Fe:SrTiO3 / Nb:SrTiO3与施主掺杂的绝缘层的界面处存在受主类型的掺杂剂浓度提供了与测量轮廓的良好匹配。这种受体类型的界面浓度可能与底部界面的Nb:SrTiO3侧的Sr空位有关。

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