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陈灵; 刘正义; 邱万奇; 黄元盛; 刘铁林; 欧阳光胜;
华南理工大学机械工程学院;
深圳市雷地科技实业有限公司;
射频辉光放电等离子体; 化学气相沉积; 类金刚石膜; 制备; 力学性能; 光学性能; 化学性能;
机译:射频等离子体增强化学气相沉积法研究硅源气和衬底偏压对掺硅的类金刚石碳膜性能的影响
机译:射频等离子体增强化学气相沉积法沉积氮化硅和类金刚石碳膜的光学性能随沉积时间的变化
机译:射频等离子体对甲烷和乙炔类金刚石碳膜化学气相沉积的比较研究
机译:射频等离子体增强化学气相沉积合成的类金刚石膜上的基体效应
机译:类金刚石和石墨碳的射频等离子体辅助化学气相沉积
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:射频电感耦合等离子体在金刚石状碳膜的化学气相沉积过程中的应用,用于改性沉积膜的性能
机译:用于等离子体增强化学气相沉积的自洽射频放电,等离子体化学和表面模型
机译:利用直流辉光放电等离子体增强化学气相沉积的金刚石膜合成装置及其方法
机译:电弧放电等离子体化学气相沉积法形成类金刚石碳膜
机译:用于沉积金刚石和类金刚石薄膜的磁增强高密度等离子体化学气相沉积等离子体源
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