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S.kobayashi; 何艳玲;
不详;
高压电器; 真空间隙; 圆形铜阴极; 辐射场;
机译:直流激励下在普通和介电桥式真空间隙中的X射线发射和预击穿电流
机译:铝电极之间超高真空间隙中的预击穿电流
机译:阴极电沉积聚合物膜对长真空间隙击穿的影响
机译:真空间隙的大面积圆形铜阴极上的击穿前发射点分布
机译:脉冲功率衬套的同轴真空间隙击穿
机译:酸性水电化学环境中Si / SiO2阴极的介电击穿和击穿后溶解
机译:击穿电压与真空间隙中的预击穿电流之间的关系
机译:大面积冷阴极真空三极管的击穿过程
机译:减少高压真空间隙中杂散预击穿电流的方法
机译:在处理衬底的真空工艺中控制等离子体密度分布的方法,在真空室中与阴极相邻布置多个阳极,以限定等离子体面积
机译:控制基板真空镀膜中的厚度分布,包括将阴极和阳极置于真空室中,在处理过程中在阴极和基板之间限定的等离子体区域中处理基板时会产生等离子体放电
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